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南大光电高端ArF光刻胶获得突破 未来可用于7nm工艺

在半导体制造上,国内厂商需要突破的不只是光刻机等核心设备,光刻胶也是重要的一环。南大光电日前宣布,该公司研发的高端ArF光刻机已经获得了国内某企业的认...